哈西奈德

克霉唑乳膏

本品主要成分哈西奈德。

本品為復方制劑，其主分為：每克乳膏含：二丙酸倍他米松（以倍他米松計）0.5mg 克霉唑 10mg 硫酸慶大霉素（以慶大霉素計）1.0mg。

天津天藥藥業股份有限公司

江西德成制藥有限公司

國藥準字H12020200

國藥準字H36020023

哈西奈德涂膜劑：

用于體癬、股癬、腳癬、手癬、花斑癬、頭癬以及念珠性甲溝炎和念珠性外陰陰道炎。

本品不同劑型、不同規格的用法用量可能存在差異，請閱讀具體藥物說明書使用，或遵醫囑。 哈西奈德涂膜劑：涂于患處，每日1-2次。 哈西奈德乳膏/哈西奈德溶液：外涂患處，每日早晚各一次。

1.皮膚感染：涂于洗凈患處，一日2-3次。2.外陰陰道炎：涂于洗凈患處，每晚1次，連續7日。

哈西奈德涂膜劑/哈西奈德乳膏： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。 4、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 5、滲出性皮膚病。 哈西奈德溶液： 1、對該藥過敏者。 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。 3、潰瘍性病變。 4、痤瘡、酒渣鼻。 5、眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。 6、滲出性皮膚病。 7、面部不宜應用。

1.偶見過敏反應。2.偶可引起一過性刺激癥狀，如瘙癢、刺痛、紅斑、水腫等。

哈西奈德涂膜劑：

用于體癬、股癬、腳癬、手癬、花斑癬、頭癬以及念珠性甲溝炎和念珠性外陰陰道炎。

1、少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢。 2、長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合。 3、封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。 4、經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品系廣譜抗真菌藥，作用機制是抑制真菌細胞膜的合成，以及影響其代謝過程。對淺部、深部多種真菌有抗菌作用。

1、面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 2、孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 3、兒童用藥：因為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 4、老年用藥：遵醫囑。 5、藥物過量：尚不明確。

1.避免接觸眼睛和其他粘膜（如口、鼻等）。 2.用藥部位如有燒灼感/紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 3.本品僅供外用，切忌口服。 4.孕婦及哺乳期婦女應在醫師指導下使用。 5.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 6.本品性狀發生改變時禁止使用。 7.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 8.兒童必須在成人監護下使用。 9.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。