復方慶大霉素膜

氨來呫諾糊劑

每片（10平方厘米）含硫酸慶大霉素1000單位、鹽酸丁卡因4毫克、醋酸地塞米松0.12毫克。

氨來呫諾。

金日制藥(中國)有限公司

山東力諾制藥有限公司

國藥準字H35021425

國藥準字H20050663

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

周期性、復發性口腔潰瘍的治療。

取略大于潰瘍面之藥膜貼于潰瘍面上(藥膜不分正反面)，每日3～4次。

局部外用.取適量本品涂于口腔潰瘍處,每日4次。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。

瞬時疼痛、用藥部位刺激或燒灼感 接觸性粘膜炎、惡心、腹瀉

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

周期性、復發性口腔潰瘍的治療。

作用機理主要是抑制脂氫合酶，抑制白三烯生成和抗白三烯作用，通過抗過敏和抗炎加速阿弗它潰瘍愈合。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。

1.國外臨床研究表明，5%氨來呫諾糊劑可持續使用至潰瘍愈合。如用藥10天后仍無明顯愈合或疼痛減輕，應咨詢醫生。 2.如不慎入眼，應及時清洗眼部。 3.置于兒童不宜觸及處。 4.涂藥后如發生皮疹或接觸性粘膜炎，立即停藥。