足光散

哈西奈德乳膏

水楊酸、苯甲酸、硼酸、苦參；輔料為滑石粉。

哈西奈德。化學名：16a，17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

健民集團葉開泰國藥（隨州）有限公司

天津太平洋制藥有限公司

國藥準字Z20025434

國藥準字H12020812

足光散清熱燥濕，殺蟲斂汗。用于濕熱下注所致的角化型手足癬及臭汗癥。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用，取藥粉40克加沸水1000～1500毫升，或取藥粉20克加沸水500～750毫升，攪拌，溶解，放溫，趁熱浸泡患處20～30分鐘，一日1次，連續三日為一療程。

外涂患處，每日早晚各一次。

水皰型、糜爛型手足癬禁用。兒童、孕婦禁用。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

足光散清熱燥濕，殺蟲斂汗。用于濕熱下注所致的角化型手足癬及臭汗癥。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

1.本品為外用藥，禁止內服。2.忌食辛辣、刺激性食物。3.切勿接觸眼睛、口腔等黏膜處。皮膚破潰處禁用。4.用藥一次，觀察3日，無不良反應，可連續使用3次；如癥狀無緩解，應去醫院就診。5.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。6.本品性狀發生改變時禁止使用。7.請將本品放在兒童不能接觸的地方。8.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。