鹽酸特比萘芬噴霧劑

哈西奈德乳膏

本品每毫升含主要成份鹽酸特比萘芬0.01克，輔料為乙醇、純化水。

哈西奈德。化學名：16a，17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

齊魯制藥有限公司

天津太平洋制藥有限公司

國藥準字H20000335

國藥準字H12020812

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬及花斑癬等。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用，噴于患處，一日2～3次，療程1～2周。

外涂患處，每日早晚各一次。

使用后可能引起皮膚刺激、紅腫、瘙癢等局部反應。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬及花斑癬等。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

使用后可能引起皮膚刺激、紅腫、瘙癢等局部反應。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。