頭孢氨芐膠囊

鹽酸氨酮戊酸外用散

頭孢氨芐

本品主要成份為鹽酸氨酮戊酸。

山東魯抗醫藥股份有限公司

上海復旦張江生物醫藥股份有限公司

國藥準字H19993037

國藥準字H20070027

適用于敏感細菌所致的急性扁桃體炎、中耳炎、鼻竇炎、支氣管炎、肺炎等呼吸道感染、尿路感染及皮膚軟組織感染等。本品為口服制劑，不宜用于重癥感染。

本品用于治療尖銳濕疣，尤其適用于發生在尿道口的尖銳濕疣。

成人：口服。一般一次250－500mg，一日4次，高劑量一日4g。兒童：口服。每...

1.臨用前加入注射用水溶解(118mg/瓶加入0.5ml),配制成濃度為20%的溶液。每次治療時，藥液必須新鮮配制，保存時間不超過4小時。2.清潔患處并保持干燥后，將配制的20%鹽酸氨酮戊酸溶液滴于棉球并覆蓋于疣體表面，每隔30分鐘左右重復將溶液滴于棉球上，持續敷藥于患處不少于3個小時。整個敷藥過程應處于避光環境中，敷藥后患處避免強光直射。?用氦氖激光照射，輸出波長632.8nm，激光能量100-150J/cm2?，治療光斑應完全覆蓋病灶。治療后1周復查，若皮損未消退則可再次治療，在三周內，治療次數最多不超過3次。3.尚無患者治療3個月后繼續隨訪的試驗資料，故3個月后復發率和進一步治療方案是未知的。

1．惡心、嘔吐、腹瀉和腹部不適較為多見。 2．皮疹、藥物熱等過敏反應，偶可發生過敏性休克。 　　3．頭暈、復視、耳鳴、抽搐等神經系統反應。 　　4．應用該品期間偶可出現一過性腎損害。 　　5．偶有患者出現血清氨基轉移酶升高、Coombs試驗陽性。溶血性貧血罕見，中性粒細胞減少和偽膜性結腸炎也有報告

本品加氦氖激光照射禁用于對632.8nm左右波長范圍的皮膚光過敏患者、卟啉癥或已知對卟啉過敏者，以及已知的對局部用鹽酸氨酮戊酸溶液中任何成分過敏的患者。

兒童注意事項： 尚不明確。 妊娠與哺乳期注意事項： 1.沒有進行鹽酸氨酮戊酸對動物的生殖功能的研究。本品是否會引起對孕婦的致命危害或影響生育功能未知。只有在確定必須的情況下才能對孕婦使用本品。 2.本品治療期間鹽酸氨酮戊酸或其代謝產物在母乳中的含量未測。鑒于許多藥物是經乳汁排泄的，對哺乳期婦女需謹慎使用本品。 老人注意事項： 尚不明確。

適用于敏感細菌所致的急性扁桃體炎、中耳炎、鼻竇炎、支氣管炎、肺炎等呼吸道感染、尿路感染及皮膚軟組織感染等。本品為口服制劑，不宜用于重癥感染。

本品用于治療尖銳濕疣，尤其適用于發生在尿道口的尖銳濕疣。

藥理頭孢氨芐屬第一代頭孢菌素，抗菌譜與頭孢噻吩相仿，但其抗菌活性較后者為差。除腸球菌屬、甲氧西林耐藥葡萄球菌外，肺炎鏈球菌、溶血性鏈球菌、產或不產青霉素酶葡萄球菌的大部分菌株對該品敏感。該品對奈瑟菌屬有較好抗菌作用，但流感嗜血桿菌對該品的敏感性較差；該品對部分大腸埃希菌、奇異變形桿菌、沙門菌和志賀菌有一定抗菌作用。其余腸桿菌科細菌、不動桿菌、銅綠假單胞菌、脆弱擬桿菌均對該品呈現耐藥。梭桿菌屬和韋容球菌一般對該品敏感，厭氧革蘭陽性球菌對該品中度敏感。

藥理作用氨酮戊酸(ALA)的代謝是人體內亞鐵血紅素合成的生化途徑的第一步。ALA自身不是光敏劑，而是光敏劑原卟啉IX(PpIX)的代謝前體。ALA的合成通常是由細胞內亞鐵血紅素水平通過ALA合成酶反饋抑制調控。外源性的ALA避開這種調節，導致PpIX的累積。皮膚應用鹽酸氨酮戊酸后因ALA轉化為PpIX并累積而產生光敏性。當暴露在一定波長和能量的光照下，累積的PpIX就會產生光動力效應，一種光和氧依賴性的細胞毒作用：PpIX吸收光后處于激發態，其隨后與氧分子發生電子傳遞而產生高度活性的單線態氧和自由基。應用ALA后病灶的光敏性與特定波長和能量的光照是ALA光動力治療的基礎。

1．在應用該品前須詳細詢問患者對頭孢菌素類、青霉素類及其他藥物過敏史，有青霉素類藥物過敏性休克史者不可應用該品，其他患者應用該品時必須注意頭孢菌素類與青霉素類存在交叉過敏反應的機會約有5%～7%，需在嚴密觀察下慎用。一旦發生過敏反應，立即停用藥物。如發生過敏性休克，須立即就地搶救，包括保持氣道通暢、吸氧和腎上腺素、糖皮質激素的應用等措施。 　　2．有胃腸道疾病史的患者，尤其有潰瘍性結腸炎、局限性腸炎或抗菌藥物相關性結腸炎（頭孢菌素很少產生偽膜性腸炎）者以及腎功能減退者應慎用該品。 　　3．對診斷的干擾：應用該品時可出現直接Coombs試驗陽性反應和尿糖假陽性反應（硫酸銅法）；少數患者的堿性磷酸酶、血清丙氨酸氨基轉移酶和門冬氨酸氨基轉移酶皆可升高。 　　4．當每天口服劑量超過4g（無水頭孢氨芐）時，應考慮改用注射用頭孢菌素類藥物。 　　5．頭孢氨芐主要經腎排出，腎功能減退患者應用該品須減量。

1.本品需遵醫囑，在專業醫護人員指導下使用。 2.本品僅用于患處，不能用于周圍正常皮膚。應避免與眼接觸。 3.本品溶液應新鮮配制，并在4小時內使用。 4.應用本品后，患處在光照治療前應避免暴露于日光或明亮的可見光下（如檢測燈、手術燈、太陽床或近距離光源）；應用本品后如不能進行光照治療，患處應在至少40小時內避免暴露于上述光源下，如有刺痛和/或燒灼痛，應減少暴露于光線。 5.本品慎用于瘢痕體質者。 6.本品不推薦用于疣體過大的尖銳濕疣。