H鹵米松乳膏

哈西奈德乳膏

主要成份為鹵米松一水合物。 化學名稱：6α,11β,16α-2-氯-6,9-二氟-11,17,21-三羥基-16-甲基甾烷-1,4-二烯-3,20-二酮一水合物。 分子式：C22H27ClF2O5·H2O 分子量：462.91

本品主要成份為哈西奈德

重慶華邦制藥有限公司

廣州白云山醫藥集團股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H20153118

國藥準字H44023020

接觸性皮炎、異位性皮炎、神經性皮炎、脂溢性皮炎、濕疹、銀屑病、扁平苔蘚、盤狀紅斑狼瘡、皮膚瘙癢癥。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用，每日12次，涂于患處，輕揉至吸收。

外涂患處，每日早晚各一次。

使用類固醇乳膏可能導致皮膚變薄、易瘀傷、色素沉著變化、痤瘡、毛囊炎、過敏反應等副作用。長期使用可能引起激素依賴性皮炎。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

接觸性皮炎、異位性皮炎、神經性皮炎、脂溢性皮炎、濕疹、銀屑病、扁平苔蘚、盤狀紅斑狼瘡、皮膚瘙癢癥。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

外用，每日12次，涂于患處，輕揉至吸收。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。