頭孢克肟片

哈西奈德溶液

本品主要成分是頭孢克肟，化學名為(6R，7R)-7-[(Z)-2-(2-氨基-4-噻唑基)-2-(羧甲氧基亞胺)乙酰胺基]-3-乙烯-8-氧代-5-硫雜-1-氮雜雙環[4，2，0]辛-2-烯-2-羧酸三水合物。 分子式:C16H15N5O7S2·3H2O 分子量:507.50

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

廣州白云山制藥股份有限公司廣州白云山制藥總廠

上海醫藥集團青島國風藥業股份有限公司

國藥準字H10950259

國藥準字H37022986

呼吸道感染、泌尿生殖道感染、皮膚軟組織感染、中耳炎、鼻竇炎、淋病、扁桃體炎。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

成人及體重30公斤以上兒童，一般感染每次100200mg，每日2次；重癥感染每次200400mg，每日2次，飯后口服。

外涂患處每日早晚各一次。

可能的副作用包括腹瀉、惡心、嘔吐、皮疹、頭痛和過敏反應。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

呼吸道感染、泌尿生殖道感染、皮膚軟組織感染、中耳炎、鼻竇炎、淋病、扁桃體炎。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

成人及體重30公斤以上兒童，一般感染每次100200mg，每日2次；重癥感染每次200400mg，每日2次，飯后口服。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。