鹽酸多西環素片

哈西奈德溶液

本品的主要成分為：鹽酸多西環素。

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

開封制藥集團有限公司

湖南爾康制藥股份有限公司

國藥準字H41020946

國藥準字H43021033

支原體肺炎、衣原體感染、淋病、梅毒、回歸熱、布魯菌病、霍亂、鼠疫、兔熱病、軟下疳、鼠咬熱、腹股溝肉芽腫、非淋菌性尿道炎、沙眼衣原體感染、立克次體病、斑疹傷寒、洛磯山斑疹熱、恙蟲病、鉤端螺旋體病、支原體感染、衣原體感染、泌尿生殖道感染、呼吸道感染、皮膚軟組織感染。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

成人首劑量200mg，隨后每12小時100mg，或遵醫囑。

外涂患處每日早晚各一次。

可能引起惡心、嘔吐、腹瀉等胃腸道反應，偶見光敏性皮炎，罕見過敏反應。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

支原體肺炎、衣原體感染、淋病、梅毒、回歸熱、布魯菌病、霍亂、鼠疫、兔熱病、軟下疳、鼠咬熱、腹股溝肉芽腫、非淋菌性尿道炎、沙眼衣原體感染、立克次體病、斑疹傷寒、洛磯山斑疹熱、恙蟲病、鉤端螺旋體病、支原體感染、衣原體感染、泌尿生殖道感染、呼吸道感染、皮膚軟組織感染。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

成人首劑量200mg，隨后每12小時100mg，或遵醫囑。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。