哈西奈德溶液

克霉唑乳膏

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品每克含主要成份克霉唑0.15克。輔料為：硬脂酸、甘油、單硬脂酸甘油酯、氫氧化鉀、羥苯乙酯。

山東健康藥業有限公司

福建省永安藥業有限責任公司

國藥準字H37022719

國藥準字H35021082

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于體癬、股癬、手癬、足癬、花斑癬、頭癬、以及念珠菌性甲溝炎和念珠菌性外陰陰道炎。

外涂患處每日早晚各一次。

1.皮膚感染：涂于洗凈患處，一日2～3次。 2.外陰陰道炎：涂于洗凈患處，每晚1次，連續7日。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

對本品過敏者忌用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。