哈西奈德乳膏

安乃近滴劑

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成分為安乃近，其化學名為[(1,5-二甲基-2-苯基-3-2，3-二氫-1H-吡唑-4-基）甲氨基]甲烷磺酸鈉鹽水合物

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武漢天天明藥業有限責任公司

國藥準字H34020378

國藥準字H42021913

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于小兒高熱解熱。

外涂患處每日早晚各一次。

口服小兒按體重一次10～20mg/kg，一日2～3次。

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

對本品或氨基比林有過敏史者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于小兒高熱解熱。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

本品為氨基比林和亞硫酸鈉相結合的化合物，易溶于水，解熱、鎮痛作用較氨基比林快而強。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.本品與阿司匹林有交叉過敏反應； 2.不宜長期應用； 3.本品一般不作首選用藥，僅在急性高熱、病情急重，又無其他有效解熱藥可用的情況下用于緊急退熱； 4.本品用藥超過1周時應定期檢查血象，一旦發生粒細胞減少，應立即停藥； 5.體弱者慎用。