哈西奈德乳膏

頭孢克洛緩釋膠囊

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

頭孢克洛-水合物。

福元藥業有限公司

上海現代制藥股份有限公司

國藥準字H34020378

國藥準字H20020240

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品適用于金黃色葡萄球菌、溶血性鏈球菌、肺炎球菌、大腸桿菌肺炎桿菌、流感桿菌、痢疾桿菌等敏感菌引起的下列輕、中度感染：1扁桃體炎、扁桃體周圍炎、咽喉炎、支氣管炎、肺炎、支氣管肺炎哮喘和支氣管擴張感染以及手術后感染。2急性及慢性腎盂炎、膀胱炎、前列腺炎及泌尿生殖系統感染。3中耳炎、外耳炎、鼻竇炎、瞼腺炎、瞼炎、急性淚囊炎。4上頜骨周圍炎、上頜骨骨膜炎、上頜骨骨髓炎、牙槽膿腫、根尖性牙周炎、智齒周圍炎、拔牙后感染。5毛囊炎、丹毒、蜂窩組織炎、膿皰病、痤瘡感染、皮下膿腫、創傷感染、乳下炎、淋巴管炎。

外涂患處每日早晚各一次。

成年人及體重20公斤以上的兒童。常用量為每日二次，每次0.375g-0.75g（...

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

1.嚴重不良反應

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

本品適用于金黃色葡萄球菌、溶血性鏈球菌、肺炎球菌、大腸桿菌肺炎桿菌、流感桿菌、痢疾桿菌等敏感菌引起的下列輕、中度感染：1扁桃體炎、扁桃體周圍炎、咽喉炎、支氣管炎、肺炎、支氣管肺炎哮喘和支氣管擴張感染以及手術后感染。2急性及慢性腎盂炎、膀胱炎、前列腺炎及泌尿生殖系統感染。3中耳炎、外耳炎、鼻竇炎、瞼腺炎、瞼炎、急性淚囊炎。4上頜骨周圍炎、上頜骨骨膜炎、上頜骨骨髓炎、牙槽膿腫、根尖性牙周炎、智齒周圍炎、拔牙后感染。5毛囊炎、丹毒、蜂窩組織炎、膿皰病、痤瘡感染、皮下膿腫、創傷感染、乳下炎、淋巴管炎。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.對青霉素等β-內酰胺內抗生素過敏者應慎用。