哈西奈德乳膏

氟氯西林鈉膠囊

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成分為氟氯西林鈉，化學名：（2S,5R,6R）-6-[[[3-(2-氯-6-氟苯基)-5-甲基異噁唑-4-基]羰基]氨基]-3,3-二甲基-7-氧代-4-硫雜-1-氮雜二環[3.2.0]庚烷-2-甲酸鈉鹽。

福元藥業有限公司

浙江金華康恩貝生物制藥有限公司

國藥準字H34020378

國藥準字H20084224

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

適用于對青霉素耐藥的葡萄球菌所致感染及葡萄球菌和鏈球菌所致雙重感染。包括：骨和關節感染、心內膜炎、腹膜炎、肺炎、皮膚感染、軟組織感染、手術后傷口感染等。

外涂患處每日早晚各一次。

成人：每次1粒，每日四次；應于飯前至少半小時服用。重癥感染，劑量可加倍

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

有青霉素過敏史或曾有青霉素皮膚試驗呈陽性者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

適用于對青霉素耐藥的葡萄球菌所致感染及葡萄球菌和鏈球菌所致雙重感染。包括：骨和關節感染、心內膜炎、腹膜炎、肺炎、皮膚感染、軟組織感染、手術后傷口感染等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

1過敏反應：服用本品少數病人可能發生過敏反應，過敏反應以皮疹為主，如蕁麻疹。個別病人可能發生過敏性休克反應。2消化道反應：少數病人可能有輕度惡心、嘔吐、腹瀉等反應。3其它反應：個別病人可能發生ALT、AST增高及黃疸癥或嗜酸性粒細胞增多。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1過敏反應：服用本品少數病人可能發生過敏反應，過敏反應以皮疹為主，如蕁麻疹。個別病人可能發生過敏性休克反應。2消化道反應：少數病人可能有輕度惡心、嘔吐、腹瀉等反應。3其它反應：個別病人可能發生ALT、AST增高及黃疸癥或嗜酸性粒細胞增多。