哈西奈德乳膏

氧氟沙星片

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為氧氟沙星

福元藥業有限公司

蓋天力醫藥控股集團制藥股份有限公司

國藥準字H34020378

國藥準字H10940227

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于敏感菌所致的泌尿、生殖、消化、呼吸系統和皮膚、軟組織等急慢性細菌感染。包括內科、外科、泌尿科、婦產科、眼科、耳鼻喉科、皮膚科等病人。

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人一次0.2～0.3g，一日2次或遵醫囑。

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

主要用于敏感菌所致的泌尿、生殖、消化、呼吸系統和皮膚、軟組織等急慢性細菌感染。包括內科、外科、泌尿科、婦產科、眼科、耳鼻喉科、皮膚科等病人。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

1.胃腸道反應：腹部不適或疼痛、腹瀉、惡心或嘔吐。 2.中樞神經系統反應可有頭昏、頭痛、嗜睡或失眠。 3.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。光敏反應較少見。 4.偶可發生： （1）癲癇發作、精神異常、煩躁不安、意識混亂、幻覺、震顫。 （2）血尿、發熱、皮疹等間質性腎炎表現。 （3）靜脈炎。 （4）結晶尿，多見于高劑量應用時。 （5）關節疼痛。 5.少數患者可發生血清氨基轉移酶升高、血尿素氮增高及周圍血象白細胞降低，多屬輕度，并呈一過性。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.由于目前大腸埃希菌對氟喹諾酮類藥物耐藥者多見，應在給藥前留取尿培養標本，參考細菌藥敏結果調整用藥。 2.本品大劑量應用或尿pH值在7以上時可發生結晶尿。為避免結晶尿的發生，宜多飲水，保持24小時排尿量在1200ml以上。 3.腎功能減退者，需根據腎功能調整給藥劑量。 4.應用本品時應避免過度暴露于陽光，如發生光敏反應需停藥。 5.肝功能減退時，如屬重度（肝硬化腹水）可減少藥物清除，血藥濃度增高，肝、腎功能均減退者尤為明顯，均需權衡利弊后應用，并調整劑量。 6.原有中樞神經系統疾患者，例如癲癇及癲癇病史者均應避免應用，有指征時需仔細權衡利弊后應用。