哈西奈德乳膏

鹽酸特比萘芬乳膏

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成分為鹽酸特比萘芬

福元藥業有限公司

滇虹藥業集團股份有限公司

國藥準字H34020378

國藥準字H20059206

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬、花斑癬及皮膚念珠菌病等。

外涂患處每日早晚各一次。

外用，一日2次，涂患處，并輕揉片刻。療程1～2周。

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

對特比萘芬或乳劑中任何型劑過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于治療手癬、足癬、體癬、股癬、花斑癬及皮膚念珠菌病等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

偶見過敏反應或局部刺激

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1、對本品過敏者禁用。2、切忌口服。并避免接觸眼睛。3、涂布部位如有燒灼感、局部發紅、瘙癢時，應停止用藥，并向醫師咨詢。4、當藥品性狀發生改變時禁止使用。5、兒童必須在成人監護下使用。6、請將此藥品放在兒童不能接觸的地方