哈西奈德乳膏

度米芬含片

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品為復方制劑，主要成分度米芬。每片含度米芬0.5毫克，輔料為蔗糖、糊精、日落黃、薄荷腦、滑石粉。

福元藥業有限公司

海南制藥廠有限公司制藥二廠

國藥準字H34020378

國藥準字H20066809

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于咽炎、鵝口瘡和口腔潰瘍。

外涂患處每日早晚各一次。

口含，一次1～2片，每隔2～3小時含服1次。

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

對本品過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于咽炎、鵝口瘡和口腔潰瘍。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

偶見過敏反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.連續使用本品3日后，若癥狀未緩解應停藥就醫。2.如服用過量或出現嚴重不良反應，應立即就醫。3.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。4.本品性狀發生改變時禁止使用。5.請將本品放在兒童不能接觸的地方。6.兒童必須在成人監護下使用。7.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。