哈西奈德乳膏

酞丁安乳膏

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品的主要成份為酞丁安，化學名稱為:3-鄰苯二甲酰亞氨基-2-氧代丁醛-1,2-雙縮氨基硫脲。

福元藥業有限公司

新鄉華青藥業有限公司

國藥準字H34020378

國藥準字H19983012

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于單純皰疹、帶狀皰疹；也可用于淺表真菌感染，如體癬、股癬、手足癬。

外涂患處每日早晚各一次。

外用。涂患處，用于治療單純皰疹、帶狀皰疹時，一日3次；用于治療淺表真菌感染時，早晚各一次，體股癬連用3周，手足癬連用4周。

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

對酞丁安過敏患者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于單純皰疹、帶狀皰疹；也可用于淺表真菌感染，如體癬、股癬、手足癬。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

少數病例有局部瘙癢刺激反應，如皮膚紅斑、丘疹及刺癢感。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1育齡婦女慎用。2使用時注意勿入口內和眼內