哈西奈德乳膏

氨芐西林膠囊

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為氨芐西林，化學名稱為：6-[D（-）-2-氨基-苯乙酰氨基]青霉烷酸的三水化合物。

福元藥業有限公司

珠海聯邦制藥股份有限公司中山分公司

國藥準字H34020378

國藥準字H20065023

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感致病菌所致呼吸道感染、泌尿系統感染、消化道感染、耳鼻喉感染、皮膚、軟組織感染。

外涂患處每日早晚各一次。

口服。成人一次0.25～0.75g，一日4次。小兒每日劑量按體重25mg/kg，...

對該藥過敏者；由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變；潰瘍性病變；痤瘡、酒渣鼻；眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）；滲出性皮膚病。

1．本品不良反應與青霉素相仿，以過敏反應較為常見。皮疹是最常見的反應，

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

用于敏感致病菌所致呼吸道感染、泌尿系統感染、消化道感染、耳鼻喉感染、皮膚、軟組織感染。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆性柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1．應用本品前需詳細詢問藥物過敏史并進行青霉素皮膚試驗。