哈西奈德溶液

安乃近片

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份安乃近。分子式：C13H16N3NaO4S·H2O分子量：351.36。

福元藥業有限公司

天方藥業有限公司

國藥準字H34020418

國藥準字H41020294

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于高熱時的解熱，也可用于頭痛?偏頭痛?肌肉痛?關節痛?痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

外涂患處，每日早晚各一次。

口服。1.成人常用量：一次0.5～1g，需要時服1次，最多一日3次。2.小兒：按體重一次10～20mg/kg，一日2～3次。

對該藥過敏者。由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。滲出性皮膚病。面部不宜應用。

對本品或氨基比林有過敏史者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于高熱時的解熱，也可用于頭痛?偏頭痛?肌肉痛?關節痛?痛經等。本品亦有較強的抗風濕作用，可用于急性風濕性關節炎，但因本品有可能引起嚴重的不良反應，很少在風濕性疾病中應用。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

本品對胃腸道的刺激雖較小，但可引起以下各種不良反應:

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.本品與阿司匹林有交叉過敏反應。 2.本品一般不作首選用藥，僅在急性高熱、病情急重，又無其他有效解熱藥可用的情況下用于緊急退熱。 3.本品用藥超過1周時應定期檢查血象，一旦發生粒細胞減少，應立即停藥。 孕婦及哺乳期婦女用藥：安乃近的代謝產物可進入乳汁。孕婦及哺乳期婦女不宜應用。