哈西奈德溶液

氯唑沙宗片

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成分及其化學名稱為4-氯-2（3氫）-苯并惡唑酮本品每片含氯唑沙宗125毫克、對乙酰氨基酚150毫克。

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新鄉市新輝藥業有限公司

國藥準字H34020418

國藥準字H41025258

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品適用于各種急、慢性軟組織（肌肉、韌帶、筋膜）扭傷、挫傷運動后肌肉酸痛、肌肉勞損所引起的疼痛，由中樞神經病變引起的肌肉痙攣，以及慢性筋膜炎等。

外涂患處，每日早晚各一次。

飯后服用。成人一次0.2～0.4g，一日3次，癥狀嚴重者可酌情加量，兒童遵醫囑。

對該藥過敏者。由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。滲出性皮膚病。面部不宜應用。

對氯唑沙宗過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品適用于各種急、慢性軟組織（肌肉、韌帶、筋膜）扭傷、挫傷運動后肌肉酸痛、肌肉勞損所引起的疼痛，由中樞神經病變引起的肌肉痙攣，以及慢性筋膜炎等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

不良反應以惡心等消化道癥狀為主，其次是頭昏、頭暈、嗜睡等神經系統反應，不良反應一般較輕微，可自行消失或在停藥后緩解。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

肝、腎功能損害者慎用。與酚噻嗪類、巴比妥酸衍生物等中樞神經抑制劑及單胺氧化酶抑制劑合用時，應減少本品用量。