哈西奈德溶液

氯唑沙宗片

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

本品主要成份為氯唑沙宗。

福元藥業有限公司

浙江亞太藥業股份有限公司

國藥準字H34020418

國藥準字H33021687

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品適用于各種急性、慢性軟組織（肌肉、韌帶、筋膜）扭傷、挫傷、運動后肌肉酸痛，肌肉勞損所引起的疼痛，由中樞神經病變引起的肌肉痙攣，以及慢性筋膜炎等。

外涂患處，每日早晚各一次。

飯后服用。成人每次1-2片，一日3次，癥狀嚴重者可酌情加量，兒童遵醫囑。

對該藥過敏者。由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。滲出性皮膚病。面部不宜應用。

偶見輕度嗜睡、頭暈、惡心、心悸、無力、上腹痛等反應，遇過敏反應應停藥，上述不良反應一般較輕微，可自行消失或停藥后緩解。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品適用于各種急性、慢性軟組織（肌肉、韌帶、筋膜）扭傷、挫傷、運動后肌肉酸痛，肌肉勞損所引起的疼痛，由中樞神經病變引起的肌肉痙攣，以及慢性筋膜炎等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.本品為對癥治療藥，用藥不得超過5天，癥狀未緩解，請咨詢醫師或藥師。 2.肝、腎功能不全者慎用。 3.孕婦及哺乳期婦女慎用。 4.不能同時服用其他含有解熱鎮痛藥的藥品（如某些復方抗感冒藥）。 5.服用本品期間不得飲酒或含有酒精的飲料。 6.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 7.本品性狀發生改變時禁止使用。 8.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 9.兒童必須在成人監護下使用。 10.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。