克霉唑乳膏

哈西奈德溶液

本品每克含主要成份克霉唑0.15克。輔料為：硬脂酸、甘油、單硬脂酸甘油酯、氫氧化鉀、羥苯乙酯。

本品主要成分及其化學名稱為：哈西奈德(氯氟舒松、哈西縮松)，16α，17-[（1-甲基亞乙基）雙（氧）]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

佑華制藥(樂山)有限公司

福元藥業股份有限公司

國藥準字H51020851

國藥準字H34020669

用于體癬、股癬、手癬、足癬、花斑癬、頭癬、以及念珠菌性甲溝炎和念珠菌性外陰陰道炎。

本品用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

1.皮膚感染：涂于洗凈患處，一日2～3次。 2.外陰陰道炎：涂于洗凈患處，每晚1次，連續7日。

外涂患處每日早晚各一次。

對本品過敏者忌用。

1;對該藥過敏者。2;由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3;潰瘍性病變。4;痤瘡、酒渣鼻。5;眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6;滲出性皮膚病。7;面部不宜應用。

兒童注意事項： 應小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥或改用其它藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 在人類尚無局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： ?

用于體癬、股癬、手癬、足癬、花斑癬、頭癬、以及念珠菌性甲溝炎和念珠菌性外陰陰道炎。

本品用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

1.偶見過敏反應。 2.偶可引起一過性刺激癥狀，如瘙癢、刺痛、紅斑、水腫等。

藥效：1.抗炎作用：本品為局部用藥，為高效含氟和氯的皮質類固醇，具有抗炎、抗瘙癢和血管收縮作用。本品在去炎松的骨架上，以氯原子取代21位羥基，其血管收縮試驗測定抗炎效價倍數為360，已有證據認為血管收縮試驗強度與療效相一致。其抗炎止癢的作用機理是提高β受體對兒茶酸胺的反應性，通過激活腺苷環化酶使CAMP生成增多，并抑制磷酸乙酯酶使CAMP破壞減少，結果使細胞中CAMP年濃度增高，同時又抑制組織胺的釋放。本品抑制大鼠和小鼠肉芽腫增生的作用與地塞米松相似。用甲醛致小鼠和大鼠后足跟腫脹法觀察，本品和地塞米松均有明顯的抑制作用，而用高5倍量的氫化可的松也無抑制作用。本品對胸腺及脾臟有明顯的減重作用。2.對各類細胞的選擇性藥理作用：減少T淋巴細胞、單核細胞、嗜酸性粒細胞數量，抑制淋巴細胞增殖及細胞因子生成，抑制巨噬細胞分化及吞噬活性，抑制中性粒細胞粘附，降低血管內皮細胞通透性，抑制成纖維細胞增殖及膠原合成，抑制皮脂腺細胞活性。3.抗增生作用本品具有抗有絲分裂作用，它降低RNA的轉錄，從而降低DNA的合成，也影響DNA的修復，結果使表皮變薄，尤其對膠原的合成影響最大。4.免疫抑制作用：本品通過與細胞漿的皮質類固醇受體結合，發生一系列反應，激活了細胞中"溶胞基因"的表達；它誘導淋巴細胞中核內DNA裂解直接殺傷淋巴細胞的死亡。毒理：急性毒性試驗，肌肉注射雌性小鼠LD50為84mg/kg，雄性小鼠LD50為35mg/kg；腹腔注射雄性小鼠LD50為215mg/kg；灌胃給藥從250~1500mg/kg未見動物死亡。亞急性毒性試驗，主要表現為胸腺和淋巴細胞的損傷。局部外用本品的致畸性尚無研究，但口服未見用藥的人群致畸危險高于一般人群。大面積大量應用本品或封包用藥，發現對丘腦-垂體-腎上腺軸（HPA軸）的抑制作用。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。 2.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 3.孕婦及哺乳期婦女應在醫師指導下使用。 4.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 5.本品性狀發生改變時禁止使用。 6.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 7.兒童必須在成人監護下使用。 8.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。

1大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。2出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。3警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。