復(fù)方醋酸地塞米松乳膏

他克莫司軟膏

本品為復(fù)方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克。輔料為：硬脂酸、白凡士林、十八醇、甘油、十二烷基硫酸鈉、羥苯乙酯、二甲基亞砜、純化水。

本品主要成份為：他克莫司。

吉林敖東延邊藥業(yè)股份有限公司

江蘇知原藥業(yè)股份有限公司

國(guó)藥準(zhǔn)字H21022645

國(guó)藥準(zhǔn)字H20193265

用于神經(jīng)性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

本品適用于非免疫受損的因潛在危險(xiǎn)而不宜使用傳統(tǒng)療法、或?qū)鹘y(tǒng)療法反應(yīng)不充分、或無法耐受傳統(tǒng)療法的中到重度特應(yīng)性皮炎患者的治療，可作為短期或間歇性長(zhǎng)期治療。本品不適用于兒童。

外用。一日1－2次，取少量涂于患處，并輕揉片刻。

在患處皮膚涂上一薄層本品，輕輕搽勻，并完全覆蓋，一天兩次。本品應(yīng)采用能控制特應(yīng)性皮炎癥狀盒體征的最小量。當(dāng)特應(yīng)性皮炎的癥狀和體征消失時(shí)應(yīng)停止使用。本品不應(yīng)采用封包輔料外用。

對(duì)本品過敏者禁用。患處已破潰、化膿或有明顯滲出者禁用。病毒感染者（如有皰疹、水皰）禁用。

在分別有12例和216例健康志愿者參加的臨床研究中，未發(fā)現(xiàn)藥物具有光毒性和光致敏性。詳見說明書。

孕婦及哺乳期婦女用藥：致畸作用：妊娠用藥分級(jí)C：目前還未對(duì)妊娠婦女局部應(yīng)用本品進(jìn)行過足夠的適當(dāng)對(duì)照的研究。本品用于妊娠婦女的經(jīng)驗(yàn)也非常有限，尚不足以對(duì)其在妊娠期間應(yīng)用的安全性進(jìn)行評(píng)價(jià)。對(duì)大鼠和家免進(jìn)行過全身性服用他克莫司的生殖毒性研究，當(dāng)給母體口服毒性劑量的藥物時(shí)胎兒產(chǎn)生不良反應(yīng)。在胚胎器官形成階段給家兔口服劑量為0.32和1.0mg/kg的他克莫司(以體表面積計(jì)，分別相當(dāng)于人用最大推薦劑量的0.04和10.12倍)，對(duì)母免產(chǎn)生毒性反應(yīng)，而且流產(chǎn)率升高。只是在更高劑量組見到有胎兒畸形和發(fā)育異常的比例升高。在胚胎器官形成階段給大鼠口服劑量為3.2mg/kg的他克莫司，對(duì)母鼠產(chǎn)生毒性反應(yīng)，并導(dǎo)致后期再吸收增加、產(chǎn)活胎數(shù)量減少、幼鼠體重和發(fā)育能力降低。在過了胚胎器官形成期后以及在哺乳期間，給妊娠大鼠口服1.0和3.2mg/kg(以體表面積計(jì)，相當(dāng)于人用最大推薦劑量的0.04和0.12倍)的他克莫司，可導(dǎo)致幼鼠體重下降。未見到雄性或雌性動(dòng)物生殖能力降低。未對(duì)妊娠婦女全身性應(yīng)用他克莫司進(jìn)行過適當(dāng)對(duì)照的研究。他克莫司可通過胎盤，在妊娠期間全身性服用他克莫司會(huì)導(dǎo)致新生兒高血鉀和腎功能紊亂。在妊娠期間

用于神經(jīng)性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

本品適用于非免疫受損的因潛在危險(xiǎn)而不宜使用傳統(tǒng)療法、或?qū)鹘y(tǒng)療法反應(yīng)不充分、或無法耐受傳統(tǒng)療法的中到重度特應(yīng)性皮炎患者的治療，可作為短期或間歇性長(zhǎng)期治療。本品不適用于兒童。

長(zhǎng)期使用可致皮膚萎縮、毛細(xì)血管擴(kuò)張、色素沉著以及繼發(fā)感染。偶見過敏反應(yīng)。

1、避免接觸眼睛和其他黏膜部位(如口、鼻等)。 2、孕婦、哺乳期婦女慎用。 3、不宜大面積、長(zhǎng)期使用；用藥1周后癥狀未緩解，請(qǐng)咨詢醫(yī)師。 4、用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應(yīng)停藥，并將局部藥物洗凈，必要時(shí)向醫(yī)師咨詢。 5、如并發(fā)細(xì)菌或真菌感染，請(qǐng)咨詢醫(yī)師處理。 6、運(yùn)動(dòng)員慎用。 7、小兒避免使用。 8、對(duì)本品過敏者禁用，過敏體質(zhì)者慎用。 9、本品性狀發(fā)生改變時(shí)禁止使用。 10、請(qǐng)將本品放在兒童不能接觸的地方。 11、兒童必須在成人監(jiān)護(hù)下使用。 12、如正在使用其他藥品，使用本品前請(qǐng)咨詢醫(yī)師或藥師

1. 避免接觸眼睛和黏膜；2. 皮膚破損處慎用；3. 孕婦及哺乳期婦女慎用；4. 兒童使用需遵醫(yī)囑；5. 避免長(zhǎng)時(shí)間暴露于陽光下。