根德(依替膦酸二鈉片)

哈西奈德溶液

本品主要成分為羥乙膦酸鈉，其化學名為1-羥乙基-1，1-二膦酸二鈉，分子式為C2H6Na2O7P2，分子量為249.99。本品為白色片。

本品主要成份為哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

北京巨能制藥有限責任公司

福元藥業有限公司

國藥準字H10980065

國藥準字H34020418

1.原發性骨質疏松癥、絕經后骨質疏松癥，和藥物引起的骨質疏松癥。2.異位骨化如paget's病，變形性骨炎，腎結石，進行性骨性肌炎，強皮癥。3.惡性高鈣血癥（含腫瘤轉移引起）。4.髖關節、脊柱等手術。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

口服，每次0.2g，一日二次，兩餐間服用。

外涂患處，每日早晚各一次。

嚴重腎損害者，骨軟化癥患者禁用。

對該藥過敏者。由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。滲出性皮膚病。面部不宜應用。

1.原發性骨質疏松癥、絕經后骨質疏松癥，和藥物引起的骨質疏松癥。2.異位骨化如paget's病，變形性骨炎，腎結石，進行性骨性肌炎，強皮癥。3.惡性高鈣血癥（含腫瘤轉移引起）。4.髖關節、脊柱等手術。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

腹部不適、腹瀉、便軟、嘔吐、口炎、頭痛、咽喉灼熱感、皮膚搔癢、皮疹等癥狀。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

1.本品需間隙、周期服藥，服藥兩周后需停藥十一周為一周期，然后重新開始第二周期，停藥期間可補充鈣劑及維生素D3。長期服用，請遵醫囑。2.服藥二小時內，避免食用高鈣食品（例如牛奶或奶制品）以及含礦物質的維生素或抗酸藥。3.腎功能損害者、孕婦及哺乳期婦女慎用。4.若出現皮膚搔癢、皮疹等過敏癥狀時應停止用藥。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。