哈西奈德溶液

重感靈膠囊

本品主要成份為：哈西奈德（氯氟舒松、哈西縮松）。

毛冬青、葛根、馬鞭草、板藍根、石膏、青蒿、羌活、馬來酸氯苯那敏、安乃近。

天津市天驕制藥有限公司

普正藥業集團股份有限公司

國藥準字H12020343

國藥準字Z20090024

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

流行性感冒、風熱感冒、風寒感冒、上呼吸道感染、頭痛、發熱、鼻塞、流涕、咽痛、咳嗽、咳痰。

外涂患處每日早晚各一次。

口服。一次3-4粒，一日3-4次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。4.痤瘡、酒渣鼻。5.眼瞼部用藥（有引起青光眼的危險）。6.滲出性皮膚病。7.面部不宜應用。

1、對馬來酸氯苯那敏過敏者禁用。 2、安乃近與阿司匹林存在交叉過敏反應，對阿司匹林過敏者禁用安乃近。 3、對安乃近或氨基比林有過敏者史禁用。 4、對吡唑酮類藥物有過敏史者禁用。 5、高空作業者、車輛駕駛人員、機械操作人員工作時間禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

流行性感冒、風熱感冒、風寒感冒、上呼吸道感染、頭痛、發熱、鼻塞、流涕、咽痛、咳嗽、咳痰。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部）、皮膚萎縮、萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

尚不明確

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

本品是中西藥復方制劑，鑒于尚無充分的臨床研究數據證實本復方制劑可以減低或消除其中化學藥品的不良反應或其他應當注意的事項，故在此項下羅列與化學藥品關聯的相關內容，以提示醫患在使用本品時予以關注。1.本藥含有馬來酸氯苯那敏、安乃近，后者是氨基比林和硫酸鈉相結合的化合物。馬來酸氯苯那敏為組織胺H1受體拮抗劑，單用時日服劑量一般不得超過24mg。安乃近為解熱鎮痛類藥，用于解熱、鎮痛單用時日服劑量一般不得超過3000mg。2.馬來酸氯苯那敏單獨使用時主要不良反應為嗜睡、口渴、多尿、咽喉痛、困倦、虛弱感、心悸、皮膚瘀