哈西奈德乳膏

新霉素氟輕松乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，其組分為：每克含硫酸新霉素3500單位，醋酸氟輕松0.25mg，冰片5mg。化學名：硫酸新霉素分子式：C23H48N6O17S分子量：712.7222

唐山紅星藥業有限責任公司

天津市天驕制藥有限公司

國藥準字H13022112

國藥準字H12021177

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。涂于皮膚患處，一日2～3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

1.對本品任何成份過敏者禁用。2.眼部禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1.長期和大面積應用，可引起皮膚萎縮、毛細血管擴張、發生痤瘡樣皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。2.偶可引起變態反應性接觸性皮炎。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.本品不能長期、大面積使用。2.應用于面部及皮膚皺褶部位應慎重權衡利弊。3.新霉素與慶大霉素有交叉過敏。