過氧化氫溶液

復方慶大霉素膜

本品主要成分為過氧化氫。

每片（10平方厘米）含硫酸慶大霉素1000單位、鹽酸丁卡因4毫克、醋酸地塞米松0.12毫克。

北京海德潤醫藥集團有限公司

金日制藥(中國)有限公司

國藥準字H11021382

國藥準字H35021425

適用于化膿性外耳道炎和中耳炎、文森口腔炎、齒齦膿漏、扁桃體炎及清潔傷口。

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

清潔傷口，3％溶液。

取略大于潰瘍面之藥膜貼于潰瘍面上(藥膜不分正反面)，每日3～4次。

尚不明確。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。

適用于化膿性外耳道炎和中耳炎、文森口腔炎、齒齦膿漏、扁桃體炎及清潔傷口。

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

高濃度對皮膚和粘膜產生刺激性灼傷，形成一疼痛“白痂”。以本品連續應用漱口可產生舌乳頭肥厚，屬可逆性。本品溶液灌腸時，當含過氧化氫(H2O2)濃度≥0.75％可發生氣栓或(和)腸壞疽。

不可與還原劑、強氧化劑、堿、碘化物混合使用。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。