哈西奈德乳膏

甲氧沙林溶液

本品主要成份為哈西奈德

本品主要成份為甲氧沙林，化學名稱為：8-甲氧基—呋喃香豆素。分子式:C12H8O4分子量:216.18

通藥制藥集團股份有限公司

重慶華邦制藥有限公司

國藥準字H22022341

國藥準字H50021839

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于銀屑病及白癜風等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用:1％甲氧沙林溶液用于牛皮癬；0.1%甲氧沙林溶液用于白癜風，患處涂擦1~2小時后，用長波紫外線照射患處。其余詳見說明書。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

配合長波紫外線照射后常見的不良反應是紅斑，常在照射24～28小時出現；皮膚色素沉著，瘙癢。若照射劑量過大或時間過長，照射部位皮膚上可出現紅腫、水皰、疼痛、脫屑，如有紅腫、水皰等可暫時停用，待恢復后再用。

孕婦及哺乳期婦女用藥：孕婦及哺乳期婦女禁用。兒童用藥：12歲以下兒童禁用。老年用藥：年老體弱患者禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于銀屑病及白癜風等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.有皮膚癌病史、有日光敏感家族史、新近接受放射線或細胞毒治療及有胃腸道疾病者應慎用。 2. 照射紫外線時及照射后8小時內應戴墨鏡，并用黑布覆蓋正常皮膚。 3.治療期間不得服用含有呋喃香豆素的食物，如酸橙、無花果、香菜、芥、胡蘿卜、芹菜等。 4.治療期間應戒酒，不宜吃過于腥辣食物。 5.治療銀屑病，需8～10次治療后出現較明顯療效。治療白癜風則療效出現更慢。