哈西奈德乳膏

復方醋酸氟輕松酊

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，其組分為：每1ml含醋酸氟輕松0。4mg、水楊酸50mg、冰片20mg。

通藥制藥集團股份有限公司

盤錦天源藥業有限公司

國藥準字H22022341

國藥準字H21023858

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于神經性皮炎。對銀屑病也有一定療效。

外涂患處，每日早晚各一次。

皮膚外用。涂于患處，每日2次。用于頭部時，應將該藥用75%乙醇按1：1的比例稀釋后再使用。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

1、對本藥及基質成分過敏者禁用。 2、血管性、病毒性等感染性皮膚病禁用。 3、潰瘍性皮膚病禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

適用于神經性皮炎。對銀屑病也有一定療效。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

少數患者涂藥部位皮膚發生灼熱、紅斑、瘙癢。長期應用可發生皮膚毛細血管擴張，皮膚，易發生細菌、真菌感染等。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1、不能應用于眼部，皮膚柔嫩及皺折部位如腋窩，腹股溝等。慎用于頭面部。 2、出現皮疹和其它不良癥狀者，應暫時停藥。 3、不能長期使用。不能大面積使用。 4、請將此藥放在兒童不能接觸的地方。