復方曲安奈德乳膏

哈西奈德乳膏

本品為復方制劑，其組份為每l克內含曲安奈德1.O毫克、制霉菌素100,000單位、硫酸新霉索(按新霉紊計)2500單位和短桿菌肽250單位。

本品主要成份為哈西奈德

中美上海施貴寶制藥有限公司

廣州白云山醫藥集團股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H31022515

國藥準字H44023020

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

局部外用。一日2～4次，涂擦患處。其它詳見說明書。

外涂患處，每日早晚各一次。

長期使用可引起局部皮膚萎縮、毛細血管擴張、痤瘡樣皮炎、毛囊炎、色素沉著及繼發感染。詳細內容見說明書。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚缺乏孕婦及哺乳期婦女用藥的臨床數據。在權衡利弊情況下．盡可能避免使用。詳細內容見說明書。兒童用藥：嬰兒及兒童不宜使用。詳細內容見說明書。老年用藥：老年患者應避免長期、大量使用。

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1.應避免接觸口腔、鼻部等粘膜。 2.本品含有多種抗生素，長期使用會導致不敏感細菌和霉菌等的過量生長，而引起二重感染，故本品治療量最多不超過2周。 3.皮質類固醇激素可增加微生物感染的機會。因此，本品僅在同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎患者方可使用。 4.本品含有新霉素能引起腎中毒和耳中毒，對于大面積燒傷、營養性潰瘍等病人應慎用。 5.有明顯循環系統疾病的患者慎用。 6.應.避免全身大面積使用及長期使用。 8.涂藥處如有灼燒、瘙癢、紅腫時，應停止用藥。 9.請將此藥置于兒童不能觸及處。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。