氧氟沙星乳膏

哈西奈德涂膜劑

本品主要成分為氧氟沙星。其化學名為(±)-9-氟-2，3-二氫-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并惡嗪-6-羧酸。

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒松。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

浙江得恩德制藥股份有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H10960031

國藥準字H10910061

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

外用。涂于患處，一日2～3次。

涂于患處，每日1～2次。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

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兒童注意事項： 應為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

1.偶有輕微刺激感。但不影響繼續治療和療效。 2.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

1.使用中若出現過敏癥狀應立即停藥。 2.嚴重腎功能不全者慎用。

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