氧氟沙星乳膏

哈西奈德乳膏

本品主要成分為氧氟沙星。其化學名為(±)-9-氟-2，3-二氫-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并惡嗪-6-羧酸。

本品主要成份為哈西奈德

浙江得恩德制藥股份有限公司

廣州白云山醫藥集團股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H10960031

國藥準字H44023020

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

外用。涂于患處，一日2～3次。

外涂患處，每日早晚各一次。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

1.偶有輕微刺激感。但不影響繼續治療和療效。 2.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

1.使用中若出現過敏癥狀應立即停藥。 2.嚴重腎功能不全者慎用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。