氧氟沙星乳膏

新霉素氟輕松乳膏

本品主要成分為氧氟沙星。其化學名為(±)-9-氟-2，3-二氫-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并惡嗪-6-羧酸。

本品為復方制劑，其組分為：每克含硫酸新霉素3500單位，醋酸氟輕松0.25mg，冰片5mg。化學名：硫酸新霉素分子式：C23H48N6O17S分子量：712.7222

浙江得恩德制藥股份有限公司

天津市天驕制藥有限公司

國藥準字H10960031

國藥準字H12021177

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

外用。涂于患處，一日2～3次。

外用。涂于皮膚患處，一日2～3次。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

1.對本品任何成份過敏者禁用。2.眼部禁用。

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

用于過敏性皮炎，亞急性慢性濕疹，陰囊濕疹，皮膚瘙癢癥和外陰瘙癢等。

1.偶有輕微刺激感。但不影響繼續治療和療效。 2.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。

1.長期和大面積應用，可引起皮膚萎縮、毛細血管擴張、發生痤瘡樣皮炎、口周皮炎、毛囊炎、增加感染的易感性等。2.偶可引起變態反應性接觸性皮炎。

1.使用中若出現過敏癥狀應立即停藥。 2.嚴重腎功能不全者慎用。

1.本品不能長期、大面積使用。2.應用于面部及皮膚皺褶部位應慎重權衡利弊。3.新霉素與慶大霉素有交叉過敏。