氧氟沙星乳膏

醋酸地塞米松乳膏

本品主要成分為氧氟沙星。其化學名為(±)-9-氟-2，3-二氫-3-甲基-10-（4-甲基-1-哌嗪基）-7-氧代-7H–吡啶并[1，2，3-de]-[1，4]苯并惡嗪-6-羧酸。

本品主要成份醋酸地塞米松C。

浙江得恩德制藥股份有限公司

馬應龍藥業集團股份有限公司

國藥準字H10960031

國藥準字H42020071

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

外用。涂于患處，一日2～3次。

涂患處，一日2～3次。

對本品及氟喹諾酮類藥過敏的患者禁用。

真菌性或病毒性皮膚病禁用，對本藥及其他皮質類固醇過敏者禁用。

用于治療敏感菌引起的膿皰瘡、疥瘡、毛囊炎、濕疹合并感染、外傷感染、癬病合并感染及其他化膿性皮膚感染等。

本品主要用于過敏性和自身免疫性炎癥性疾病。如局限性瘙癢癥，神經性皮炎，接觸性皮炎，脂溢性皮炎，慢性濕疹等。

1.偶有輕微刺激感。但不影響繼續治療和療效。 2.過敏反應：皮疹、皮膚瘙癢，偶可發生滲出性多形性紅斑及血管神經性水腫。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染，局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色素沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。

1.使用中若出現過敏癥狀應立即停藥。 2.嚴重腎功能不全者慎用。

1.并發細菌及病毒感染時，應與抗菌藥物合用。2.不能長期大面積應用。