哈西奈德乳膏

復方磺胺氧化鋅軟膏

本品主要成分為哈西奈德。

復方制劑，其組分為：每克含磺胺0.03克、氧化鋅0.05克等。

國藥集團三益藥業(蕪湖)有限公司

廣州白云山制藥股份有限公司白云山何濟公制藥廠

國藥準字H34020306

國藥準字H44024458

本品適用于接觸性濕疹﹑異位性皮炎﹑神經性皮炎﹑面積不大的銀屑病﹑硬化性萎縮性苔蘚﹑扁平苔蘚﹑盤狀紅斑性狼瘡﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

用于濕疹、創口潰瘍等。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。用溫水洗凈患部后涂敷藥膏，一日2-3次。

1、對該藥過敏者禁用； 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變禁用； 3、潰瘍性病變禁用； 4、痤瘡、酒鼻禁用； 5、眼瞼部禁用（有引起青光眼的危險）； 6、滲出性皮膚病。

局部過敏反應可有皮疹、紅斑及瘙癢等。

本品適用于接觸性濕疹﹑異位性皮炎﹑神經性皮炎﹑面積不大的銀屑病﹑硬化性萎縮性苔蘚﹑扁平苔蘚﹑盤狀紅斑性狼瘡﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

用于濕疹、創口潰瘍等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感，刺痛，暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部），皮膚萎縮，萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜，瘀斑，皮膚脆弱，多毛癥，毛囊炎，粟丘疹，皮膚脫色，延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

氧化鋅為皮膚的弱收斂劑，既有滋潤和保護作用，又有收斂及干燥性能；硼酸為弱防腐藥，對細菌和真菌有抑制作用，刺激性小；爐甘石、磺胺為廣譜抗菌藥，對革蘭陽性和陰性菌均具有抑菌作用；水楊酸甲酯有促進局部循環，止痛作用。

1、大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。 2、出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。 3、警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.用藥一周后癥狀未緩解，應向醫師咨詢。2.藥物性狀發生改變時，禁止使用。3.兒童必須在家長監護下使用。4.請將此藥品放在兒童不能接觸的地方。5.不宜長期大面積使用。