哈西奈德乳膏

鹽酸布替萘芬乳膏

本品主要成分為哈西奈德。

本品每克含鹽酸布替萘酚10毫克。輔料為：丙二醇、液態石蠟、白凡士林、氫氧化鈉、單硬脂酸甘油酯、羥苯丙酯、十八醇、硬脂酸聚烴氧（40）酯、薄荷腦等。

國藥集團三益藥業(蕪湖)有限公司

四川明欣藥業有限責任公司

國藥準字H34020306

國藥準字H20020025

本品適用于接觸性濕疹﹑異位性皮炎﹑神經性皮炎﹑面積不大的銀屑病﹑硬化性萎縮性苔蘚﹑扁平苔蘚﹑盤狀紅斑性狼瘡﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

主要用于絮壯癬菌、紅色癬菌、須發癬菌及斑禿癬菌等引起的足趾癬、體癬、股癬的局部治療。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。每次適量搽于患處，用于手、足癬時，一天2次，連用7天或一天1次，連用4周；用于體癬、股癬及汗斑時，一天1次，連用2周。

1、對該藥過敏者禁用； 2、由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變禁用； 3、潰瘍性病變禁用； 4、痤瘡、酒鼻禁用； 5、眼瞼部禁用（有引起青光眼的危險）； 6、滲出性皮膚病。

少于2％患者有接觸性皮炎、紅斑、刺激、干燥、瘙癢、燒灼感及癥狀加重等不良反應。

本品適用于接觸性濕疹﹑異位性皮炎﹑神經性皮炎﹑面積不大的銀屑病﹑硬化性萎縮性苔蘚﹑扁平苔蘚﹑盤狀紅斑性狼瘡﹑脂溢性皮炎（非面部）﹑肥厚性瘢痕。

主要用于絮壯癬菌、紅色癬菌、須發癬菌及斑禿癬菌等引起的足趾癬、體癬、股癬的局部治療。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感，刺痛，暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張（尤其面部），皮膚萎縮，萎縮紋（青少年易發生）皮膚萎縮后繼發紫癜，瘀斑，皮膚脆弱，多毛癥，毛囊炎，粟丘疹，皮膚脫色，延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應（參看注意事項）。

本品為苯甲胺衍生物，其作用機制為選擇性地抑制真菌角鯊烯環氧化酶，干擾真菌細胞壁的麥角固醇的生物合成，影響真菌的脂質代謝，使真菌細胞損傷或死亡而起到殺菌和抑菌作用。

1、大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。 2、出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。 3、警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。

1.僅供外用，切忌口服。不宜用于眼部、黏膜部位、急性炎癥部位及破損部位。 2.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。 3.本品涂敷后不必包扎。 4.孕婦及哺乳期婦女慎用。 5.兒童應在醫師指導下服用。 6.對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。 7.本品性狀發生改變時禁止使用。 8.請將本品放在兒童不能接觸的地方。 9.兒童必須在成人監護下使用。 10.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。