哈西奈德乳膏

克霉唑溶液

本品主要成份為哈西奈德

本品每瓶含主要成份克霉唑0.015克,輔料:二甲基亞砜、酒精、醋酸丁酯。

唐山集川藥業利康制藥有限公司

國藥集團三益藥業(蕪湖)有限公司

國藥準字H13022157

國藥準字H34020324

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于體癬，股癬、手癬、足癬、花斑痹、頭癬、以及念珠菌性甲溝炎和念珠菌性外陰陰道炎。

外涂患處，每日早晚各一次。

涂于洗凈患處，一日2-3次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

偶見過敏反應。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

用于體癬，股癬、手癬、足癬、花斑痹、頭癬、以及念珠菌性甲溝炎和念珠菌性外陰陰道炎。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品系廣譜抗真菌藥，作用機制是抑制真菌細胞膜的合成，以及影響其代謝過程。對淺部、深部多種真菌有抗菌作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1.對本品過敏禁用。2.避免接觸眼睛。3.用藥部位如有灼燒感、瘙癢、紅腫等，應停止用藥。洗凈。必要時向醫師咨詢。4.當藥品性狀發生改變時禁止使用。5.兒童必須在成人監護下使用。6.請將此藥品放置在兒童不能接觸的地方。