哈西奈德乳膏

哈西奈德涂膜劑

本品主要成份為哈西奈德

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒松。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

唐山集川藥業利康制藥有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H13022157

國藥準字H10910061

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

外涂患處，每日早晚各一次。

涂于患處，每日1～2次。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

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兒童注意事項： 應為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

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