哈西奈德乳膏

復方醋酸地塞米松乳膏

本品主要成份為哈西奈德

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克。輔料為：羥苯乙酯、聚山梨酯80、香精、卡波姆、羥丙基甲基纖維素、亮藍。

唐山集川藥業利康制藥有限公司

汕頭經濟特區鮀濱制藥廠

國藥準字H13022157

國藥準字H20083244

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹

外涂患處，每日早晚各一次。

外用。一日1-2次，取少量涂于患處，并輕揉片刻。

1.對該藥過敏者。2.由細菌、真菌、病毒和寄生蟲引起的原發性皮膚病變。3.潰瘍性病變。痤瘡、酒渣鼻。4.眼瞼部用藥(有引起青光眼的危險)。5.滲出性皮膚病。

1;對本品過敏者禁用。2;患處已破潰、化膿或有明顯滲出者禁用。3;病毒感染者（如有皰疹、水痘）禁用。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

本品用于神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張、皮膚萎縮、萎縮紋皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應。

長期大量使用可致皮膚萎縮、毛細血管擴張、色素沉著以及繼發感染。偶見過敏反應。

大面積大量用藥或封包方式可使經皮吸收多，可發生全身反應，尤其是低齡兒童和嬰幼兒，出現可逆行柯興氏征及生長遲緩，突然停藥可出現急性腎上腺皮質功能不全。出現局部不耐受現象，應停藥并尋找原因。警惕留在皮膚皺褶部位和尿布中的藥物可吸收入體內。 請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。

1避免接觸眼睛及其他黏膜部位。 2孕婦、哺乳期婦女慎用。 3不宜大面積、長期使用；用藥一周后癥狀未緩解，請咨詢醫師。 4如用藥部位出現皮疹、瘙癢、紅腫等，應停止用藥，洗凈，必要時向醫師或藥師咨詢。 5連續使用不能超過4周，面部、腋下、腹股溝及外陰等皮膚細薄處連續使用不能超過2周。 6如并發細菌或真菌感染，請咨詢醫師處理。 7當本品性狀發生改變時禁用。